【摘 要】
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采用激光分子束外延法在Si（111）衬底上制备出沿c轴取向的AlN薄膜,在此基础上制备了Au/AlN/Si金属-绝缘体-半导体（MIS）结构。研究了结构的电流传输机制、AlN/Si界面处的界面态密度
【机 构】
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河南大学物理与电子学院光伏材料省重点实验室
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采用激光分子束外延法在Si（111）衬底上制备出沿c轴取向的AlN薄膜,在此基础上制备了Au/AlN/Si金属-绝缘体-半导体（MIS）结构。研究了结构的电流传输机制、AlN/Si界面处的界面态密度值及分布情况。结果表明：AlN/Si异质结具有很好的整流特性,电流传输符合空间电荷限制传输机制,理想因子为2.88;结构的界面态密度约为1.1×10^（12 eV^-1·cm^-2,主要分布在距离Si衬底价带顶0.26eV附近,由生长过程中引入的O杂质、N空位/N替代和Si原子代替N原子形成
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