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由链末端含有-COOH、-OH和丙烯酰氧基的超支化聚合物、多官能丙烯酸酯和光引发剂三组分组成光致抗蚀剂。在玻璃片上成膜后硬度可达到HB～H的铅笔硬度。抗蚀剂膜用混合UV光源曝光和四甲基氢氧化铵（TMAH）水溶液显影可获得‰约为5．5×10^-3J／cm^2的灵敏度和γ约为8的高反差。其曝光的灵敏度和反差γ可由显影液和光引发剂调节。并且显示出刻蚀深度随曝光能量呈现线性变化的关系。此特性使得该类抗蚀剂可用于微光学元件加工，并可对其表面形状进行控制。使用该类抗蚀剂，通过移动掩膜曝光制备了200μm&#