氟化非晶碳膜的光学带隙和伏安特性

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chengchao5618

【摘要】

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用苯(C6H6)和三氟甲烷(CHF3)混合气体作源气体,采用永磁微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWECRCVD)技术,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F).光学带隙的结果表明它与膜中的C、F

【作者】

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黄峰康健杨慎东叶超程珊华宁兆元甘肇强

【机构】

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苏州大学物理系

【出处】

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功能材料

【发表日期】

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2002年3期

【关键词】

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氟化非晶碳膜光学带隙伏安特性超大规模集成电路 aC∶Fthin films MWECRCVD the optical gap IV characte

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用苯(C6H6)和三氟甲烷(CHF3)混合气体作源气体,采用永磁微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWECRCVD)技术,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F).光学带隙的结果表明它与膜中的C、F元素含量和键结构都有关系;伏安特性的测量表明a-C:F薄膜的电导在低电场下呈欧姆特性,高电场下则是肖特基发射机制.

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