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用MPCVD法在WC—Co刀具上沉积金刚石薄膜
用MPCVD法在WC—Co刀具上沉积金刚石薄膜
来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fxmen2
【摘 要】
:
研究了硬质合金基体的预处理对金刚石沉积的影响,并确定了用MPCVD法在WC-Co刀具上沉积金刚石薄膜的工艺参数。采用了一些提高成核密度和沉积速率的方法,用SEM、XRD和Raman对金刚
【作 者】
:
余卫华
周健
王念
李力
刘桂珍
【机 构】
:
武汉理工大学
【出 处】
:
功能材料与器件学报
【发表日期】
:
2001年3期
【关键词】
:
金刚石薄膜
刀具
微波等离子体
基体预处理
硬质合金
diamond coatingWC-Co toolmicrowave plasmasubstrate pr
【基金项目】
:
湖北省自然科学基金
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研究了硬质合金基体的预处理对金刚石沉积的影响,并确定了用MPCVD法在WC-Co刀具上沉积金刚石薄膜的工艺参数。采用了一些提高成核密度和沉积速率的方法,用SEM、XRD和Raman对金刚石薄膜的性质进行了分析。结果表明,合适的预处理可以有效的抑制钴的溢出并提高薄膜的质量。
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