高离化率电-磁场协同增强HiPIMS高速沉积特性

来源 :哈尔滨工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：diechong

【摘要】

：

为了使高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术在保持高离化率的条件下实现HiPIMS高速沉积过程,采用电场与磁场双外场协同作用改善HiPIMS放电与沉积特性.研究了电-磁场协同增强HiPIM

【作者】

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李春伟田修波姜雪松徐淑艳

【机构】

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东北林业大学工程技术学院,先进焊接与连接国家重点实验室（哈尔滨工业大学）

【出处】

：

哈尔滨工业大学学报

【发表日期】

：

2021年2期

【关键词】

：

高功率脉冲磁控溅射钒膜离化率沉积速率基体离子电流密度 high power impulse magnetron sputtering vanadium

【基金项目】

：

中央高校基本科研业务费专项资金(2572018BL09),黑龙江省自然科学基金(LH2019E001)

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为了使高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术在保持高离化率的条件下实现HiPIMS高速沉积过程,采用电场与磁场双外场协同作用改善HiPIMS放电与沉积特性.研究了电-磁场协同增强HiPIMS((E-MF)HiPIMS)和常规HiPIMS制备钒膜时的基体离子电流密度、发射光谱、钒膜表面形貌及表面粗糙度、截面形貌及沉积速率等,并探讨了(E-MF)HiPIMS模式的放电机理.研究表明:与HiPIMS相比,钒靶(E-MF)HiPIMS放电时的平板工件基体离子电流密度峰值增加了6倍,铜靶(E-MF)HiPIMS放电

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