【摘 要】
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随着半导体工业的飞速发展,化学机械抛光(CMP)渐成为集成电路制造中的一项关键工艺,其中抛光液是化学机械抛光过程中重要的消耗品,长期以来国内主要硅材料厂及半导体元件厂依
【机 构】
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中国科学院上海微系统所纳米技术研究室
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随着半导体工业的飞速发展,化学机械抛光(CMP)渐成为集成电路制造中的一项关键工艺,其中抛光液是化学机械抛光过程中重要的消耗品,长期以来国内主要硅材料厂及半导体元件厂依赖进口产品,不仅价格昂贵,而且受制于人.中科院上海微系统所纳米技术研究室CMP小组开展了“纳米抛光液产业化关键技术”研究,致力于解决纳米磨料的制备技术、纳米磨料的纯化技术、抛光液配制技术、抛光液的应用技术等.
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