弹性散射截面对计算电子束投影成像衬度的影响

来源 :电子显微学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xd05724221

【摘要】

：

我们采用蒙特卡洛方法模拟了100keV电子通过W/Cr/Si3 N4掩膜的透射率.发现在此高能量下,电子弹性散射的Mott截面与经典的Rutherford截面仍有较大差异.由于这两种总截面和小角

【作者】

：

浦其荣丁泽军孙霞吴自勤

【机构】

：

中国科学技术大学结构分析重点实验室、天文与应用物理系

【出处】

：

电子显微学报

【发表日期】

：

2004年5期

【关键词】

：

总截面电子弹性散射微分截面弹性散射截面投影透射蒙特卡洛方法 r/S 高能量成像 cross section for electron elasti

【基金项目】

：

国家自然科学基金，高等学校博士学科点专项科研项目

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我们采用蒙特卡洛方法模拟了100keV电子通过W/Cr/Si3 N4掩膜的透射率.发现在此高能量下,电子弹性散射的Mott截面与经典的Rutherford截面仍有较大差异.由于这两种总截面和小角散射的微分截面不同,因此采用何种截面将直接影响限角散射电子束投影成像的模拟结果.本文通过比较电子透射的实验测量和模拟计算结果,确认了使用Mott截面的必要性.

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