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射频反应溅射制备SnO2薄膜机理研究
射频反应溅射制备SnO2薄膜机理研究
来源 :北京建筑工程学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:quyeliang
【摘 要】
:
SnO2薄膜的成膜机制是研究其结构的一项重要内容,本文就射频反应溅射成膜过程中影响成膜质量的因素进行了讨论,给出了薄膜形成过程的初步模型,分析了影响薄膜成长和特性的因
【作 者】
:
马黎君
【机 构】
:
基础部
【出 处】
:
北京建筑工程学院学报
【发表日期】
:
2003年1期
【关键词】
:
SNO2薄膜
射频
薄膜机理
SnO2 films RF film mechanism
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SnO2薄膜的成膜机制是研究其结构的一项重要内容,本文就射频反应溅射成膜过程中影响成膜质量的因素进行了讨论,给出了薄膜形成过程的初步模型,分析了影响薄膜成长和特性的因素.
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