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比较了现行国军标中氦质谱检漏固定法与灵活法标准判据，在相同条件下，2种方法的判据有数量级上的差别。相同内腔体积的半导体分立器件、电子及电气元件和微电子器件，由于器件种类不同，封装、工艺等不同，细检漏的判据仍然存在较大差别。分析了美军标中氦质谱检漏标准判据，指出国军标和美军标氦质谱检漏标准判据存在一定的不适用性，建议元器件氦质谱检漏的标准判据应进一步改进。