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高纯二氧化锗中痕量杂质的ICP-MS法测定
高纯二氧化锗中痕量杂质的ICP-MS法测定
来源 :分析试验室 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hhejiang
【摘 要】
:
建立了高纯二氧化锗中痕量杂质Mg、Al、Ni、Cu、Zn、In、Pb的ICP-MS测定方法。选择了仪器最佳工作条件,研究了锗基体对被测元素的干扰,方法回收率为94%~114%,RSD为11.1%~57%。
【作 者】
:
刘红
赵春华
刘英
【机 构】
:
北京有色金属研究总院分析测试技术研究所
【出 处】
:
分析试验室
【发表日期】
:
2006年7期
【关键词】
:
高纯二氧化锗
ICP-MS
痕量杂质
ICP-MS
Trace impurities
High pure germanium dioxide
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建立了高纯二氧化锗中痕量杂质Mg、Al、Ni、Cu、Zn、In、Pb的ICP-MS测定方法。选择了仪器最佳工作条件,研究了锗基体对被测元素的干扰,方法回收率为94%~114%,RSD为11.1%~57%。
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