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利用掠入射X射线技术表征高分子薄膜
利用掠入射X射线技术表征高分子薄膜
来源 :大学化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:rfg45y5465u5
【摘 要】
:
掠入射X射线技术是一种表征高分子薄膜的结晶性、厚度、界面粗糙度等物理量的新方法,本文简单介绍了这种技术中X射线反射率法和掠入射X射线衍射法的基本原理、测试和分析方法
【作 者】
:
张吉东
莫志深
【机 构】
:
中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室
【出 处】
:
大学化学
【发表日期】
:
2009年2期
【关键词】
:
X射线技术
高分子薄膜
掠入射
表征
X射线衍射法
界面粗糙度
反射率法
结晶性
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掠入射X射线技术是一种表征高分子薄膜的结晶性、厚度、界面粗糙度等物理量的新方法,本文简单介绍了这种技术中X射线反射率法和掠入射X射线衍射法的基本原理、测试和分析方法以及这些方法在高分子薄膜研究中的应用。
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