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77K下电流增益为2.6万的SiGe/SiHBT
77K下电流增益为2.6万的SiGe/SiHBT
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yuxjmail
【摘 要】
:
通过优化设计SiGe/SiHBT的纵向参数,找到一种低温工艺方法,研制出了在液氮温度下电流增益达到26000的高增益异质结晶体管。
【作 者】
:
邹德恕
陈建新
徐晨
魏欢
史辰
杜金玉
高国
邓军
沈光地
【机 构】
:
北京工业大学电子信息与控制工程学院
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
2001年3期
【关键词】
:
HBT
电流增益
锗化硅
异质结晶体管
SiGe/Si HBT
current gain
technologies for low temperature
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通过优化设计SiGe/SiHBT的纵向参数,找到一种低温工艺方法,研制出了在液氮温度下电流增益达到26000的高增益异质结晶体管。
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