PHASE TRANSFORMATION BEHAVIOR IN THE SPUTTERDEPOSITED Ti-Pd-Ni THIN FILMS

来源 :金属学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yzyzyzy

【摘要】

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Ti-Pd-Ni thin films were prepared by sputter deposition at room temperature. The asdeposited thin films were crystallized at 750°C followed by various cool

【作者】

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Q.C. Tian J.S. Wu

【机构】

：

KeyLaboratoryoftheMinistryofEducationforHighTemperatureMaterialsandTests

【出处】

：

金属学报：英文版

【发表日期】

：

2001年5期

【关键词】

：

Ti-Pd-Ni sputtering PHASE TRANSFORMATION Nickel Palladium Sputter deposition T

【基金项目】

：

上海市科委资助项目

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Ti-Pd-Ni thin films were prepared by sputter deposition at room temperature. The asdeposited thin films were crystallized at 750°C followed by various cooling conditions,and the structural change emerged in the films was characterized by means of bot

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