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以微机电系统常用的单晶硅材料和经氮离子注入单晶硅后形成的表面改性层为研究对象，在原位纳米力学测试系统上进行微压痕实验，对样品的表面纳米硬度进行了测试。同时，还通过该仪器的原子力成像功能对实验区域扫描成像，在纳米尺度下观察和分析形貌。结果表明：单晶硅在氮离子注入前后的纳米硬度值与载荷有很大关系。通过对微压痕和原子力图像的分析，表明单晶硅在氮离子注入后的纳米硬度值有所降低，其主要原因是氮离子注入后导致晶格抵抗变形的能力降低。