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由《半导体国际》主办的“第四届晶圆清洗研讨会”8月9日在上海圆满闭幕。会议吸引了200多名国内知名晶圆厂经理人和工程师，另外，TFT......
《半导体国际》第三届光刻技术研讨会10月25日成功举行。应用材料，Entegris（英特格）、特许半导体、苏州华飞微电子材料公司，中芯国际，AS......
为期三天的SEMICON China2007于3月23日在上海浦东新国际展览中心落下帷幕。历经19载，规模一年胜过一年的SEMICON China除了不断聚......
Microprobe CEO Mike Slessor在日前接受《半导体国际》采访时表示，对于探针卡公司而言，为了达到更好的并行测试以跟随ATE设备不断提......
2006年8月10日,上海龙东商务酒店,由《半导体国际》主办的第三届晶圆清洗技术研讨会在此圆满结束,与会者包括国际知名设备材料供应......
2006年10月24日，上海张江开发区龙东商务酒店，继“成品率提升研讨会”“晶圆清洗技术研讨会”后，《半导体国际》年度第三个研讨会“光......
随着半导体技术不断向着更小的工艺节点推进，成品率损失（yield loss）已经成为业界的心腹大患之一．这是《半导体国际》于5月24日在上海......
半导体制造业如何降低成本、缩短交期，提升成品率。都成为面对全球竞争的关键。由于成品率的损失造成成本的提升．因此各半导体厂莫不......
目前，《半导体国际》（SI China）／《电子设计技术》（EDN China）对话ARM中国总裁谭军，对中国Foundry与Fabless协同发展进行了探讨，ARM作为全......
《半导体国际》（SI China）／《电子设计技术》（EDN China）日前对话MIPS上海公司总经理何英伟，就中国IC设计公司发展中面临的问题及可行之......
<正>在标准的IC制造工艺中,涉及晶圆清洗和表面预处理的工艺步骤就有100多步,在整个ICN造的发展过程中,湿法清洗一直以来在晶圆清......
<正> 8月10日,《半导体国际》第三届晶圆清洗技术研讨会在沪顺利举办,与会者络绎不绝;借此机会,《半导体国际》有幸邀请到来自晶圆......
