中频反应溅射相关论文
探讨了AIN膜和渐变Al-A1N选择性吸收涂层的中频溅射技术，结果表明：增大铝靶电流或减小氩气流量有助于改善AIN反应溅射的工艺稳定性：随......
探讨Ni-AlN复合膜和渐变Ni-AlN选择性吸收涂层的中频溅射技术。结果表明:随着镍靶电流增加和铝靶电流减小,铝靶溅射由金属模式向反......
研究了Mn或Cu掺杂的非晶AlN薄膜在室温下的发光性质。Cu或Mn掺杂的非晶AlN薄膜是在玻璃衬底上采用中频反应磁控溅射制备的。X射线......
中频反应溅射沉积二氧化钛膜难于控制的主要原因是钛靶的强金属性，使滞回曲线（hysterrisis curve）过渡区临界．实验结果表明，钛靶电压随......
利用中频反应磁控溅射成功制备了AIN薄膜。研究了过程参数例如靶电流、溅射气压和氮浓度对AIN薄膜沉积速率和光学性能的影响规律。......
利用自制的等离子体增强型渗注镀复合处理设备上的非平衡磁控溅射功能，在不同硬度基底上制备了Ti/TiN／Ti（N，C）多层复合膜。膜呈深黑色，表......
通过中频磁控反应溅射,在Si（100）衬底上沉积AlN薄膜,并用X射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱表征AlN薄膜的微观特征。实验中,研究......
利用磁控溅射在柔性基底上制备了大面积的TiO2/Ag/Ti/TiO2多层膜,其中TiO2和Ag分别采用中频反应溅射和直流磁控溅射制备,同时采用T......
