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AlN靶材射频磁控溅射制备A1N薄膜及性质研究
以AlN作为靶材,使用射频磁控溅射法在Si(100)和玻璃衬底上,在纯氮气气氛条件下制备得到AlN薄膜,并研究了衬底温度对薄膜的结构,形......
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AlN靶
射频溅射
倾斜扫描(STD)
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