光化学气相淀积相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

光化学气相淀积相关论文

低温 Hg 敏化光化学气相淀积 Si3N4薄膜

用光-CVD 技术,在100—200℃的温度下,在 Si 片上淀积出了 Si3N4薄膜。本文研究了薄膜淀积速率与淀积参数的关系,讨论了淀积的 Si3......

期刊

低温 Hg 敏化光化学气相淀积 Si3N4 薄膜

低温 Hg 敏化光化学气相淀积 Si3N4薄膜

用光-CVD 技术,在100—200℃的温度下,在 Si 片上淀积出了 Si3N4薄膜。本文研究了薄膜淀积速率与淀积参数的关系,讨论了淀积的 Si3......

英文论文

低温 Hg 敏化光化学气相淀积 Si3N4 薄膜

看过本文同时还关注