化学机械抛光设备(CMP) 相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

化学机械抛光设备(CMP)相关论文

CMP抛光设备底座系统的模态仿真分析

设计了一种化学机械抛光设备(CMP)的底座系统,主要包括地脚、方钢管、大铝板等。针对CMP设备在使用中存在的噪声偏大,高转速下的电......

期刊

化学机械抛光设备(CMP) 底座系统频率分析结构优化 Chemical mechanical planarization equipment Pedesta

看过本文同时还关注