采用等离子增强化学气相沉积系统(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)沉积氢化非晶硅(HydrogenatedAmorphousSilicon)，通过正......

用C_6H_6和CF_4作为源气体，在微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积系统中(ECR-CVD)，制备了氟化非晶碳膜(a-C:F,H膜)，并对其进行真空......

利用等离子体增强化学气相沉积系统，用CH4、NH3和H2为反应气体，在沉积有100nm厚Ta过渡层和60nm厚NiFe催化剂层的Si衬底上制备了碳纳......