针对半导体行业产生的含氟废水,采用混凝沉淀和活性氧化铝组合工艺,对该生产废水进行处理,首先通过混凝沉淀去除大部分污染物,然后......

高能耗和膜污染是膜技术在污水处理推广方面的两个主要障碍。膜污染会造成微滤阻力的增大,在恒压工况下渗透速度随时间而减小,恒速......

半导体废水水质复杂,污染物种类繁多,经过初级物化处理后,仍含大量悬浮物、有机物和无机盐,亟待有效处理并回用。本工作采用MBR-RO......

应用动态膜技术回收半导体厂晶片切割废水,研究了动态膜的形成条件及其水处理效果.通过恒压过滤形成动态膜：恒压过滤压差5 kPa,曝气......

半导体制造过程中产生的晶背研磨废水具有有机物浓度低,悬浮物含量高的特点,针对某半导体厂的晶背研磨废水和反洗废水,设计采用UF-......

ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......

随着半导体制造先进制程的推进,废水中双氧水的浓度不断上升,造成了总排放口COD偏高。采用锰催化还原工艺处理高浓度含双氧水废水,......

本文对动态膜分离技术回收半导体厂中晶片切割废水以及采用超滤-反渗透工艺处理空调循环冷却排污水进行了研究。在动态膜分离技术......