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富硅氧化硅薄膜相关论文

热处理温度及掺硼对富硅氧化硅发光的影响

利用等离子体增强化学气相沉积制备了未掺杂与掺硼富硅氧化硅薄膜。在高纯N2气氛中经过600℃、800℃和1100℃热处理,发现随着热处......

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富硅氧化硅薄膜热处理温度掺硼发光中心硅纳米晶 SRSO films annealing temperature B-doping luminescent

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