投影光刻机相关论文
本文用部分相干光成像理论研究了提高分辨力及增大焦深的原理．建立了二元光栅倾斜照明成像数理模型。对几种倾斜照明方式进行了模拟......
阐述了照明光学系统在分步投影光刻机中的重要作用，介绍了当采用部分相干光照明时相干度对分辨率的影响，以及Ｋｏｈｌｅｒ照明中聚光镜像差对成像......
在霍普金斯（ Ｈｏｐｋｉｎｓ）理论的基础上， 对方孔的传统透射掩模、衰减相移掩模以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算......
本文针对目前亚半微米分步重复投影光刻机四极／环形离轴倾斜照明能量利用率低的缺点，设计了一种二元光学元件应用于离轴倾斜照明的系......
在以准分子激光为光源的步进扫描投影光刻机中,为了精确控制曝光剂量,需要用能量探测器实时、精确地监测单个激光脉冲的能量。研制......
前言采用接触式光刻机制作集成电路,这种光刻机的优点是装置简单,精度高;缺点是光照度均匀性差,硅片和掩模压紧曝光,二者容易划伤......
本文介绍一个数值孔径0.4、视场10×10mm~2可用于1:1分步投影光刻机的镜头的光学设计及其模型实验结果.光学设计在Wynne-Dyson的1:......
本文根据多年来的实验结果和工作经验,探讨在研制投影光刻精细线条的照明系统中,解决关于大照明面积、高照明均匀性、高象面照度及......
像质校正灵敏矩阵是像质校正算法中由像质参数计算像质校正参数的过渡矩阵。矩阵中的元素表征了像质参数随像质校正参数变化的灵敏......
提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深(DOF)的新技术。该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上,硅片显影后,由光学对准系......
介绍了０．８～１．０μｍ分步重复投影光刻机双光路光栅衍射同轴对准系统的构成及原理，详细讨论了对准数据的软件处理和计算方法，并给出实际测试结果......
介绍工作波长为193nm的投影光刻物镜研究设计,对波长、数值孔径和分辨力的选择,光学结构型式的确定,以及材料和试制加工工艺的考虑......
介绍了双频激光干涉仪利用光的干涉和多普勒效应测距的原理以及距离的计算方法。并以此为基础介绍了双频激光干涉仪在投影光刻机工......
对先进封装步进投影光刻机的焦深进行评估。投影光刻机是IC制造与先进封装行业的关键设备，对后道封装而言，厚胶工艺是典型工艺，最厚部......
随着先进封装技术的发展，对光刻的要求（CD均匀性、套刻精度等）将逐渐提高，当硅片尺寸逐渐增大到200mm（8英寸）乃至．300mm（12英寸）时，步进投影......
介绍了针对早期的投影光刻机存在PDP-11计算机速度慢,控制系统难操作的问题,利用普通PC机通过GPIB卡替换了PDP-11计算机,使用VB语......
国家重点新产品：SSB500步进投影光刻机上海微电子装备有限公，d（SMEE）t耍致力于量产型Ic制造、先进封装、3D—TSV、MEMS、OLED—TFT制造......
论述了ASML公司某型投影光刻机TTL对准系统的基本原理和主要构成,介绍了对准系统在光刻工艺中的工作过程,结合多年的投影光刻机维......
重点介绍投影光刻镜头的装配结构、材料和加工、定心、检测、调整、连接等关键工艺环节的基本要求、工艺方法和保证措施。在此基础......
作者采用HCl和HBr作为刻蚀气体，在Tegal1611设备上刻蚀Poly－Si，研究了工艺条件，如压力、功率等对工艺结果的影响，得到了相当好的工艺结......
以某型投影光刻机为例介绍了调平调焦系统的基本原理和主要构成,详细叙述了调平调焦系统的运行步骤,并结合多年的投影光刻机维修经......
<正> 前言光刻技术是微细加工的核心。到目前为止人们提出并采用有如下几种方式:接触式光刻;1:1反射投影光刻;直接在硅片上分步重......
论述了Cymer公司ELS-6000系列准分子激光器工作原理和激光器的各个组成模块。在应用方面，论述了激光束的传输方法和与Stepper通信接......
集成电路(integrated circuit,IC)装备作为集成电路产业发展的关键基础,己成为高技术装备产业的典型代表。一个国家集成电路装备制......
光刻机作为半导体制造行业中的关键设备,它的性能直接决定所生产集成电路的特征线宽。线宽和套刻精度是光刻机中最为重要的性能参......
<正> 半导体器件的真正高集成化始于刚称得上超LSI的64KDRAM,让我们沿着记忆的层次,回顾一下其发展过程吧!MOS存储器正从64KDRAM向......
<正> 〔本刊讯〕由中国科学院光电技术研究所承担的“七五”国家重点科技攻关项目IOE1010G 直接分步重复投影光刻机(简称DSW 光刻......
ＤＳＷ投影物镜的温控系统王继红（中国科学院光电技术研究所四川双流６１０２０９）１引言分步投影光刻机是集成电路专用设备中的关键设备。随着光刻精度的......
期刊
高精度温度控制在集成电路设备、精细化工、生物医药、精密光学、精密仪器测量等领域有着广泛的应用,温度控制的性能直接影响设备......
<正> 现在衡量一个国家现代化程度的重要标志之一就是看其电子技术发展的水平如何。电子技术的两大支柱则是半导体集成技术和计算......
电子工业部第４５研究所所长任继东在ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机鉴定会上的讲话尊敬的张学东主任：尊敬的王金城军工总监：尊敬的李兆吉老部长：各位领导，各......
