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本征电荷击穿相关论文

金属沾污对超薄栅氧(2.5nm)特性的影响

采用可控的金属沾污程序,最大金属表面浓度控制在1012cm-2数量级,来模拟清洗工艺最大可能金属沾污表面浓度.利用斜坡电流应力和栅......

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栅氧完整性金属沾污本征电荷击穿斜坡电流应力 MOS电容器 gate oxide integrity metal contamination charge

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