椭圆偏振光谱相关论文
在单晶硅片上, 利用旋涂法, 制备了偶氮染料掺杂高分子(PMMA)薄膜, 利用可变入射角、 波长扫描的全自动椭圆偏振光谱仪, 研究了薄......
利用椭圆偏振光谱进行薄膜样品的测量数据分析拟合时, 薄膜厚度与介电常数通常具有一定的关联性。不同色散模型的选取也会对拟合结......
椭圆偏振光谱因其独特的优点广泛应用于薄膜科学和技术中。光度法椭圆偏振光谱中椭圆旋向是不能直接确定的，从而不能确定椭偏参数Δ......
光的偏振信息在当前快速发展的光电子学和光学研究中是缺失的,利用偏振特征不仅可以提取探测物和研究对象的额外信息,而且延伸了探......
近年来,二维过渡金属二硫化物(TMDs)因其在电学,光学,力学等方面超凡的性能引起了材料科学家们的关注。如较大的激子结合能和超高......
作为透明氧化物半导体材料之一,单斜氧化镓(β-Ga_2O_3)由于在室温下超宽的带隙(～4.9 e V),从深紫外到红外区域透明,热化学稳定性高......
镍(Ni)金属表面呈现单一的银白色，限制了它的装饰性能。氧化亚铜(Cu2O)薄膜在厚度非常薄的时候可以由光干涉效应而呈现出金、绿、蓝......
金属基薄膜是众多光学器件的重要基础材料,在现代光学仪器和光电子材料中具有举足轻重的作用。本论文对近年来观察到金属基微纳结......
氮化镓(GaN)是一种直接宽带隙半导体材料,具有优异的物理和化学性质,是制备高温、高功率、高频电子器件以及发光二极管、激光二极......
薄膜厚度和光学常数的准确测量在应用和研究领域具有重要的意义。椭圆偏振光谱法(Spectroscopic Ellipsometry,简称椭偏光谱法,缩......
镍(Ni)金属银白色单一外观严重限制其在装饰用品和艺术设计上的应用,为了提升镍的装饰价值,采用电沉积方法在镍基底表面沉积一层氧......
椭圆偏振测量术是利用线偏振光经样品反射后偏振状态发生变化这一现象获得样品的光学常数的光谱测量方法，它通过对样品反射光光强做......
椭偏光谱测量是一种非接触、非破坏性的光学分析技术，由于其尤其适合薄膜测量，因此椭偏光谱测量是研究薄膜材料光学性质的重要手段之......
主要内容如下：1、研究了芯片表面DNA薄膜光学性质及其杂交前后的差异.固定在芯片表面的单分子层DNA探针薄膜和杂交后的DNA薄膜,在薄......
本文介绍椭圆偏振光谱学的原理和研究方法，对新型光电子材料银氧化物和有机发光材料Alq3和Al掺杂的Alq3的椭圆偏振光谱进行了分析，研......
Langmuir-Blodgett(LB)膜是一种超薄有序组装膜。LB膜技术是一种可以在分子水平上精确控制薄膜厚度的制膜技术。由于该膜具有分子......
文章简要的介绍了Langmuir-Blodgett(LB)膜的基本知识及其制备原理。利用该方法,我们制备了花菁染料(HQ)LB多层薄膜,并对其光学特......
GaN基材料具有禁带宽度大、电子漂移饱和速率高、介电常数小、导热性能好等特点,非常适合制作抗辐射、高频、大功率和高密度集成电......
随着经济的发展，能源危机日益加重，无污染的光伏发电受到了大家的广泛关注。微晶硅薄膜太阳能电池既有高效率和稳定性好的优点，又有节......
AlGaN基半导体是目前短波长光电器件中最重要的材料，以其为基础研发的深紫外LED和LD在照明、杀菌、环保以及军事上都有着重要的应用......
采用射频等离子增强化学气相沉积法(PECVD)制备掺氮类金刚石薄膜(DLC:N),通过原子力显微镜,拉曼光谱和椭圆偏振光谱等对试验样品进......
利用椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜,研究了相同温度下不同退火气氛及压强处理对溶液旋涂法制备a-IGZO光学特性和薄膜微观结构的影......
运用郎缪尔-布尔吉特法在聚酰亚胺衬底上制备聚偏氟乙烯及三氟乙烯(P(VDF-TrFE))共聚物薄膜.不同厚度薄膜的X射线衍射结果表明,薄......
采用化学溶液方法在(111)Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了Bi3.25La0.75Ti3O12(BLT)和Bi3.25Nd0.75Ti3O12(BNT)薄膜.x射线衍射测试表明,......
采用溶胶-凝胶技术在Pt/Ti/SiO_2/Si衬底上制备了不同镧掺杂浓度BiGaO_3(Lx BGO,0≤x≤0.1)薄膜.X-射线衍射(XRD)表明该属于正交晶......
采用椭圆偏振光谱法,在1.50～6.50 eV光谱内,研究了在蓝宝石衬底(0001)面上使用金属有机化学气相沉积(MOCVD)的方法制备的非掺杂纤锌......
采用椭圆偏振光谱技术研究了非晶态碲镉汞薄膜在不同退火条件下的结构性能.结果表明非晶态碲镉汞薄膜在退火过程中的成核晶化是在......
作者继用新函数Ｖｏｐ 表示的椭圆法对Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｇ 等进行阳极溶出定量分析之后，本文又实验研究阴极溶出椭圆法对锰变价离子的定量分析。再次证明......
利用椭圆偏振光谱进行薄膜样品的测量数据分析拟合时,薄膜厚度与介电常数通常具有一定的关联性.不同色散模型的选取也会对拟合结果......
使用一种新型的溶胶．凝胶方法制备了ZnO薄膜，此方法的特点在于操作简单、无毒、实用。此方法可在非单晶基片（如玻璃、石英等）上制备最......
基于溶液旋涂法和高压退火工艺制备了a-IGZO薄膜。采用椭圆偏振光谱分析仪以及原子力显微镜研究和分析了H2O2对薄膜的表面结构和光......
本文回顾了独具特色的椭偏光谱学近一个世纪的历史发展，综述了椭偏光谱学的应用现状，指出了其前研究领域，并对这一古老又年轻的光谱学......
采用VHF-PECVD技术制备了两个气压系列不同生长阶段的微晶硅薄膜,通过椭圆偏振技术研究了生长过程中微晶硅薄膜表面粗糙度的演化.......
采用固相扩散法在n-Si（100）衬底上制备了两组退火条件不同的SixGe1-x薄膜。利用椭圆偏振光谱和二次离子质谱技术，对薄膜的厚度及组分......
采用椭圆偏振光谱法,在1.5~6.5 eV光谱范围研究了纤锌矿结构GaN外延薄膜.通过物理模型建立和光谱拟合得到了GaN外延薄膜的厚度和光......
宽禁带半导体薄膜,包括碳化硅,氮化镓和氧化锌及其化合物以及异构体,带隙普遍在3.2eV以上,一阶声子特征峰在100至1500cm-（-1）之间。......
为了研究InAlN材料的光学参数随温度的变化特性,采用变温椭圆偏振光谱(25~600℃)测量技术对InAlN合金材料在193~1650nm宽光谱范围......
采用椭圆偏振光谱法,在1.50～4.50eV光谱范围内,研究了在蓝宝石衬底上使用分子束外延方法制备的纤锌矿结构ZnO薄膜的光学性质.对椭圆......
报道了采用红外椭圆偏振光谱术测量ＧａＡｓ体材料的射率，测量范围为２．５－１２．５μｍ并将所得实验数据与理论计算和其它实验结果进行了对比，实验结果的可靠......
采用射频磁控溅射在石英玻璃基底上反应溅射制备单斜相（M相） VO2薄膜。利用V-VASE和IR-VASE椭圆偏振仪及变温附件分别在0。5—3。5 e......
利用吸收光谱、光致发光谱、喇曼散射光谱和椭圆偏振光谱一系列光学手段，对采用金属有机物气相沉积法（MOCVD）制备的InN薄膜的光学性质......
采用阴极真空电弧离子沉积技术在硅基片上制备出了MgO薄膜。利用椭圆偏振光谱、原子力显微镜及扫描电子显微镜分别对不同氧流量下......
将单晶硅片硅烷化后,用戊二醛做醛基修饰,将5'端氨基修饰寡核苷酸探针片段通过醛-氨共价键结合在硅片上,然后用椭圆偏振光谱法......
根据铝阳极氧化初期不同阶段Al-H2SO4体系的界面特征建立多个光学模型,并采用有效介质近似解析了高时间分辨率的原位椭圆偏振光谱......
我们提出一种简便宜行的测试方法，即利用固定波长下的消光椭圆偏振仪中补偿器材料的色散曲 线计算对不同波长的光产生的位相差，实现......
