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氮化镓:硅相关论文
GaN:Si薄膜的结构和应力特性研究
对掺杂浓度为1017~1019 cm-3的GaN:Si样品进行高精度X射线衍射和拉曼散射光谱的研究发现:随着Si掺杂浓度的增加,GaN晶粒尺寸逐渐减......
期刊
氮化镓:硅
异质外延
X射线衍射
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