版图分解算法相关论文
随着集成电路制造工艺尺寸的迅速缩小,在使用现有的光刻技术时,光波将发生衍射,导致版图图形产生较大失真。目前双成像光刻(double......
双成像光刻技术是在集成电路制造工艺不断缩小时解决光刻后图形失真问题和提高准确度的最有效的方案之一.在双成像光刻中,需要进行......
