直流磁控溅射技术相关论文
氧化镍(NiO)半导体材料具有优异的电学性能和化学稳定性,在多个领域有潜在应用。作为潜在的传输层材料,高迁移率和电导率的NiO薄膜......
本文系统地分析了直流磁控溅射工艺参数对薄膜质量的影响,优化了溅射工艺参数,制备了Cu原子百分比分别为0、5、9的TiNiCu薄膜;优化......
因介电常数高、品质因数高、温度稳定性好,微波介质陶瓷被广泛应用于无线通信、航空航天以及军用雷达等领域,以制作各种无源微波元......
本文通过直流磁控溅射技术在单晶Si(111)基底上沉积UO2薄膜,在相同工艺条件不同沉积时间下分别制备了三组薄膜。通过扫描电子显微......
使用Murakami溶液和王水预处理高钴硬质合金刀片，并用直流磁控溅射（DCS）技术在此硬质合金上溅射铝过渡层，在热丝化学气相沉积（HFCVD）设备......
本论文采用Cu-Ni二元合金拼合靶为靶源,利用直流磁控溅射技术在单晶O和A 2O3基板上制备CuxNiy薄膜。通过采用X-射线衍射（XRD）、极图（S......
