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GDC(He+SiH4)是为HL-1M装置研制的一种常规壁处理技术.在He辉光等离子体条件下,通过气相中的电子碰撞离解、电离、离子-分子反应和......
通过对HL-1M装置真空运行模式、真空运行参数、氦辉光放电清洗和硅化壁处理手段等的规范化,显著地改善了装置的真空壁出气、本底杂......
