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硅深槽隔离相关论文
1μm宽硅深槽刻蚀技术
介绍了硅深槽刻蚀的基本原理和影响对蚀效果的几个主要工艺因素。提出了一种实现1μm宽的硅深槽刻蚀工艺途径;并给出了1μm宽、8μm深、侧......
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半导体工艺
反应离子刻蚀
硅深槽隔离
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