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磁控管方式相关论文
采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究
将磁控管方式溅射用于微波ECR等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度C轴取向的ZnO薄膜,其膜的沉积速率比普通ECR溅射中所得到的速率大......
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磁控管方式
溅射
ECR等离子体
ZnO薄膜
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