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直流自我偏压作为高密度射频（RF）等离子体刻蚀工艺中的重要电学参数,反映出具有高能量的离子对待刻蚀晶片的轰击效果,后者决定了刻蚀......
为了给小型医用回旋加速器提供负氢离子,研制了一台Penning型负氢离子源。采用发射光谱法对该负氢离子源进行了诊断,同时结合离子......
目的 研究离子源功率对a-C：H（Al）薄膜结构及性能的影响。方法 采用阳极离子源离化CH_4气体,中频磁控溅射Al靶,通过改变离子源功率,在n......
AlN的高热导率特性使得它成为理想的散热材料之一，此外，AlN还具有高击穿场强、高禁带宽度、高化学和热稳定性、良好的光学和力学性能......
