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等离子体增强技术相关论文

等离子体增强技术在镀铜玻璃衬底上低温制备GaN薄膜

以三甲基镓(TMGa)和氮气(N2)分别作为镓和氮反应源,采用电子回旋共振等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)技术在镀铜......

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氮化镓薄膜等离子体增强技术镀铜玻璃衬底 GaN filmplasma enhanced technologycopper-glass substrate

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