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纳米薄片结构相关论文
以SiO2为模板制备高比表面积g—C3N4光催化剂
比表面积大小是限制普通块状g—C3N4(Bulk-C3N4)光催化性能的重要因素,以三聚氰胺为原料,SiO2纳米粒子为嵌入剂,采用一种简便的方法制备......
期刊
石墨相氮化碳
高比表面积
光催化
纳米薄片结构
SiO2嵌入剂
graphitic carbon nitride
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pho
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