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溅射深度剖析现已成为测量材料表层及薄膜中元素成分分布的一种常规技术,对其工作参数的研究是其发展迅速的重要原因。本文在介绍......
本文首先通过脉冲射频辉光放电发射光谱定量表征了自然生长在Si(111)基片上约1nm的SiO2膜,表明射频辉光放电发射光谱具有纳米级别......
随着表面技术被广泛应用于各个领域,对表面检测方法的要求越来越高。特别是多层或存在浓度梯度的材料表面分析是非常复杂的。本文报......
研究了辉光放电电流、放电电压、信号采集时间以及预溅射时间等因素对中低合金钢辉光光谱行为的影响,建立了辉光放电发射光谱法(GD......
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