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FP-LPAW方法相关论文
掺杂AlN的理论与实验研究
氮化铝(AlN)是直接带隙宽禁带(~6.2 eV)Ⅲ-Ⅴ族半导体材料,在短波长光电子器件领域具有重要应用价值。但是,实现AlN材料在光电器件上的......
学位
氮化铝
FP-LPAW方法
磁控溅射
p型掺杂
稀磁半导体
光致发光
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