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La系高k栅介质相关论文
La-基高K栅介质Ge MOS器件制备及栅极直接隧穿电流模型
为了在等比例缩小器件特征尺寸的同时,保持高的电流驱动能力和开关速度,传统的SiO2栅介质被高k材料替代,高迁移率沟道材料取代了Si......
学位
Ge MOS器件
La系高k栅介质
界面特性
表面钝化层
直接隧穿电流
La2O3高k材料生长与总剂量辐照特性研究
随着集成电路尺寸的缩小,高k材料替代SiO2作栅氧已成为一种必然趋势。多年来,人们尝试了多种介电常数高于传统SiO2的材料,例如Al2O......
学位
La系高k栅介质
ALD淀积
XPS
ISE TCAD
总剂量辐照
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