本文利用微波电子回旋共振等离子体增强非平衡磁控溅射(MW-ECR plasma enhanced magnetron sputtering)的方法,采用Al靶和高纯氮气......

本文实验用微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体增强射频反应非平衡磁控溅射方法进行的AlN薄膜的制备。实验中以高纯Al靶为溅射靶材,......