TiAlN薄膜相关论文
硬质涂层能显著提高刀具、模具的使用寿命和被加工零件的质量。TiAlN涂层因具有硬度高、热硬性好、抗高温氧化能力强、附着力强等......
为了使4Cr13不锈钢表面性能得到更好的优化和获得镀膜最佳的偏压工艺,在不同的偏压工艺下,采用多弧离子镀技术和磁控溅射技术在4Cr......
本文首先对类金刚石薄膜和TiAIN薄膜的研究背景、结构性能、制备方法、表征、应用以及生长机理进行了综述。在此基础上，将非平衡磁......
TiAlN具有硬度高、化学稳定性好、摩擦系数低、抗氧化温度高等优异性能。Al含量的不同会导致TiAlN薄膜晶体结构的变化,进而影响TiA......
使用磁控溅射技术制备了TiAlN薄膜和ZnO薄膜。通过改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列Al含量不同的氮化钛铝(TiAlN)薄膜。在溅......
采用磁过滤阴极真空弧沉积技术在不同的真空室压强(N2流量)状态下制备TiAlN薄膜,讨论了N2流量对TiAlN薄膜各项性能的影响。并对薄......
采用非平衡磁控溅射技术在硬质合金基体上制备了TiAlN薄膜。在400℃-800℃对试样进行氧化实验,利用XRD,SEM,精密电子天平等对TiAlN......
采用磁控溅射方法在硬质合金表面沉积TiAlN硬质薄膜,并在400～850℃的温度下进行氧化处理,通过XPS分析氧化后薄膜表面层的物质组成及......
采用中频非平衡磁控溅射离子镀设备在YG10硬质合金表面制备(Ti_(1-x)Al_x)N薄膜,运用X线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度计和材......
利用IPB30/30T型空心阴极离子镀膜机并改变蒸发源料中Ti、Al的比例,在不锈钢表面沉积了不同Al含量的TiAlN薄膜;电子探针分析结果表......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品......
钛合金具有比强度高、耐蚀性好、耐热性高等优点,已经广泛应用于飞机结构材料中,用于制造航空发动机风扇、压气机轮盘、叶片等重要......
为了提高钬合金的耐磨性能,采用磁控溅射技术在TA19钛合金表面制备了TiAIN硬质薄膜。采用扫描电镜、能谱仪和X射线衍射分析了薄膜......
研究利用反应磁控溅射法在高速钢基体上制备TiAlN薄膜材料，采用XRD测试薄膜晶体结构，用UMT显微力学测试仪测试薄膜摩擦系数。在此基......
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀的方法，在工具钢表面制备了TiAIN薄膜。运用EDS、XRD和SEM对薄膜的成分、组织结构和表面形貌进行了......
使用磁控共聚焦溅射技术并改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列A1含量不同的氮化钛铝(TiAlN)薄膜.在溅射过程,薄膜沉积速率和Al......
讨论利用直线型过滤电弧制备TiAlN薄膜中,过滤磁场作用于弧斑、靶中毒现象,电子和离子的回流和叠加偏压等因素影响作用的大小进行......
本课题以纯Ti靶和纯Al靶位靶材,利用反应磁控溅射的方式在9SiCr和玻璃基体上制备了二元氮化物薄膜TiN和三元氮化物薄膜TiAlN。通过......
为了提高PCrNi3Mo钢的耐磨性,利用电弧离子镀技术在其表面沉积了Ti（0.7）Al（0.3）N和Ti0.5Al0.5N薄膜,分析了沉积态和磨损态薄膜膜层的微......
采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺，并施加霍尔离子源辅助沉积，在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DLC/TiAlN复合薄膜。利......
采用中频孪生磁控溅射技术，以Q235碳钢为基体，通过调整薄膜沉积过程中基体负偏压大小，制备TiAlN薄膜．采用原子力显微镜（ AFM）观察薄膜表......
本文采用射频磁控溅射法在硬质合金钻头表面制备了TiAlN薄膜。XPS测试表明，膜层的主要成分为金属氮化物，Ti，Al原子个数比约为1：1；XRD分......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,通过调节Al靶电流,在不锈钢基体上制备了TiN薄膜和TiAlN薄膜样品,并在热......
采用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技术沉积TiAlN,TiCrAlN 薄膜和TiCrAlN/TiCrN 复合薄膜.采用扫描电镜（SEM）观察薄膜表面形貌和磨......
采用非平衡磁控溅射技术在AISI202不锈钢片和P（111）单晶硅基底上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜（FESEM）、三维轮廓仪、X射线衍......
采用非平衡磁控溅射技术在Q235钢和单晶硅基片上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜（FESEM）、纳米力学探针、划痕测试仪对薄膜的......
采用空心阴极电子束辅助多弧离子镀的方式在WC基体上制备了TiAlN薄膜,讨论了电子束能量的大小对膜层组织形貌及摩擦学性能的影响。......
多弧离子镀技术作为物理气相沉积的一种方法,尤其适合于在金属表面制备各种金属化合物薄膜或高熔点金属膜层,因此自上世纪80年代以......
目前,关于氮氩比对TiAlN薄膜高温抗氧化性能影响的研究较少。采用多弧离子镀技术在M2高速钢上沉积TiAlN薄膜,利用SEM、XRD等方法研......
采用中频非平衡磁控溅射离子镀技术在硬质合金基体YG6上制备TiAlN薄膜。利用XRD、EDS、体式显微镜、显微硬度仪和多功能材料表面性......
作为TiN硬质薄膜最有前景的替代材料,TiAlN薄膜比TiN具有更优良的特性,如高的硬度、良好的耐蚀性和耐磨性等。因此,TiAlN薄膜在切......
为了解决硬质合金在使用中出现的问题,硬质合金镀层开始登上历史舞台。TiAlN薄膜具有硬度高、热硬性好、氧化温度高、附着力强等优......
Ti N、Ti Al N、Cr N、Cr Al N、Ti Al N/Cr Al N等过渡金属氮化物薄膜是应用广泛的硬质薄膜材料,由于其具有硬度高、耐磨性好、抗......
本论文研究TiAlN硬质薄膜的氧化机理和抗氧化性能。采用非平衡磁控溅射技术在硬质合金基体上制备了TiAlN薄膜,并分别将试样在不同......
TiAlN薄膜具有高硬度、耐摩擦磨损和耐腐蚀等优点，是目前应用最广泛的刀具涂层材料。传统磁控溅射的金属离化率一般低于10%，溅射粒子......
本文综述了多弧离子镀沉积技术的原理和发展,阐述了多弧离子镀沉积技术在工业,方面的应用。 介绍了多弧离子镀设备构成,并以Cr......
采用多弧离子镀技术,在硅基体表面沉积TiAlN薄膜;固定试样与靶材间的距离,使试样表面与靶平面成0°、45°、60°、120°、135°、1......
