光刻胶的刻蚀技术研究

来源 :第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cntanmingyong

【摘要】

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光刻胶的刻蚀在细化光刻胶线条以及在对细线条的光刻胶进行修剪方面都有作用,本文采用等离子体刻蚀机对光刻胶的刻蚀技术进行了研究.在光刻机曝光出的0.5微米线条的基础上,获

【作者】

：

赵玉印欧文

【机构】

：

中国科学院微电子中心

【出处】

：

第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

【发表日期】

：

2003年期

【关键词】

：

光刻胶线条等离子体刻蚀机微米刻蚀技术光刻机修剪曝光基础

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光刻胶的刻蚀在细化光刻胶线条以及在对细线条的光刻胶进行修剪方面都有作用,本文采用等离子体刻蚀机对光刻胶的刻蚀技术进行了研究.在光刻机曝光出的0.5微米线条的基础上,获得了0.2微米的栅线条.

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