【摘 要】
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将辅助外加磁场引入到传统的非平衡磁控溅射系统中,形成一个新的磁场配置,在此基础上用ICP增强沉积了Cu膜。用ANSYS软件模拟了新磁场的空间分布。放电中的等离子体电势、电子
【机 构】
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中国民航大学理学院; 大连理工大学物理与光电工程学院;
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将辅助外加磁场引入到传统的非平衡磁控溅射系统中,形成一个新的磁场配置,在此基础上用ICP增强沉积了Cu膜。用ANSYS软件模拟了新磁场的空间分布。放电中的等离子体电势、电子温度、电子密度和离子密度用Langmuir探针诊断,通过比较得出应用辅助外加磁场可以增加等离子体密度和电离度。用此设备沉积了Cu膜,并用AFM、SEM和XRD等进行了检测,结果表明,引入辅助外加磁场有效的提高了Cu的性能,此系统有望应用于集成电路导电膜的制备。
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