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离子辅助轰击能有效改善非晶碳膜(a-C)的质量.用脉冲激光(532nm,3.5×10<8>W/cm<2>烧蚀石墨靶,同时用Ar<+>轰击膜面,在Si(100)衬底上沉积a-C膜.用扫描电镜和拉曼光谱对膜结构作了分析.结果表明,在较低气压和较高的射频功率下制备的a-C膜质量较好,同时,激光重复频率对膜生长也是显著影响.