非晶碳膜相关论文
为了研究出一种静电防护性能良好,能量输出大,工艺简单的火工品,本文设计制作了一种以非晶碳膜作为换能元材料的电火工品,并对其点......
在大数据时代,冯·诺依曼瓶颈已严重限制了计算机的高效处理能力,而人脑具备高效、低功耗和处理复杂问题的优势,同时其功能的完成......
非晶碳膜具有一系列优异的性能,如高的硬度、低的摩擦系数、优异的耐腐蚀性、良好的生物相容性和绝缘性以及较宽的禁带宽度,在机械......
随着日渐提高的机械装置高精密、长寿命和安全服役要求,运动副的摩擦磨损成为制约其发展的瓶颈之一。为了解决上述问题,越来越多的......
离子辅助轰击能有效改善非晶碳膜(a-C)的质量.用脉冲激光(532nm,3.5×10W/cm烧蚀石墨靶,同时用Ar轰击膜面,在Si(100)衬底上沉积a-C......
通过向Cr-GLC薄膜工作层引入迟滞氧化型组元掺杂，所获C-Cr-X膜因X相(X=强氧化物形成元素Al、Si或碳化物形成元素Mo、W)对C、O扩散结......
本文利用磁控溅射的方法在Si(100)基片上成功沉积了非晶碳膜( a-C ),并对其电输运特性、气压敏感性和气体敏感性进行了较为详细的......
论文利用磁控溅射的方法在n-Si(100)基片上成功沉积了钯掺杂的非晶碳薄膜(a-C:Pd),对其光敏特性(光伏特性、光电导特性和光诱导电......
本文提出采用磁控溅射的方法,制备出一批厚度大致相同、低含量掺杂且含量渐次增大的二元复合薄膜,通过对薄膜的成分、微观结构及力......
木论文利用直流磁控溅射的方法在硅基片上沉积非晶碳膜,从而形成非晶碳膜/硅(a-C/Si)异质结材料,再在a-C/Si异质结表面沉积金属钯......
超高分子量聚乙烯（UHMWPE）凭借其优异的化学稳定性、耐冲击性、耐摩擦磨损性能和良好的生物相容性得到了广泛的应用，是常用的临床人工......
非晶碳膜主要由sp~2、sp~3杂化碳的非晶态和微晶态结构组合而成,按照薄膜内部结构的差异,包含了类金刚石薄膜(DLC)及类石墨碳薄膜(......
利用完全抑制网络结构（ＦＣＮ）模拟计算氢化非晶碳（ａ－Ｃ：Ｈ）膜的组成．形成致密 ａ－Ｃ：Ｈ膜的条件是 Ｈ、ｓｐ２Ｃ和ｓｐ３Ｃ应在其三元相图中的一个三角形区域内．实验数据表明，模拟......
用电子回旋共振等离子体化学气相沉积 (ECR CVD)方法在不同基片温度下从苯制得了含氢非晶碳膜 (α C :H) ,对样品进行了伏安特性测......
在室温下 ,用激光烧蚀石墨靶方法在单晶硅衬底表面沉积了不同厚度的非晶碳膜。对膜进行了表面形貌观察 ,测试并分析了膜的拉曼散射......
采用脉冲激光沉积法在n-Si(100)衬底上制备氧化铝膜(Al2O3)和不同温度下的铁掺杂非晶碳薄膜(a-C∶Fe)。I-V特性曲线表明:制备的a-C......
以阴极电弧法,分别于硅基材与铜纳米线(CuNWs)/硅基材(其中铜纳米线系阳极氧化铝(AAO)模板技术成长于硅基材上)沉积非晶碳膜,,分别......
利用Raman和XPS研究N离子注入前后非晶碳膜化学键合的变化及CN成键情况.结果表明,被注入到非晶碳膜内的N与C原子结合,形成sp3 C--N......
用射频等离子体化学沉积方法制备氢化非晶碳(a-C：H)膜。在等离子体气氛中引入胺基团，则能够在a-C：H薄膜沉积过程中将胺基团掺入薄膜的......
采用微波等离子体化学气相沉积系统在陶瓷衬底上制备了具有sp^2键价结构的纳米非晶碳膜。用Raman谱、XPS谱、SEM和XRD等手段分析了......
采用离子轰击辅助电子束蒸发技术制备了含有纳米石墨结构的碳膜。利用XRD、Ralnan和AFM等方法分析了碳膜的厚度、结构、相成分和形......
用微波等离子体化学气相沉积设备、在陶瓷/金属钼薄膜衬底上沉积出了氮掺杂非晶碳膜,分别用扫描电子显微镜(SEM),金相显微镜及Rama......
采用等离子体注入沉积方法(PⅢ-D),混合通入C2H2、Ar或N2,制备了具有不同表面润湿性的非晶碳薄膜a-C:H和掺N非晶碳薄膜a-C:N:H.采......
离子辅助轰击能有效改善非晶碳(a-C)膜的质量.用脉冲激光(532 nm, 3.5×108 W/c m2)烧蚀石墨靶,同时用Ar+轰击膜面,在Si(100)......
类金刚石膜在磁盘和读写磁头之上形成一层关键的保护膜.磁存储密度的飞速发展可以使存储密度上限达到1万亿字节/英寸2.这要求读写......
在单晶Si（100）基体上，采用闭合场非平衡磁控溅射方法沉积制备了导电非晶碳膜。X射线衍射（XRD）分析表明薄膜呈明显的非晶结构；用XPS分析了......
目的通过对钛合金基底进行表面改性,提高其作为质子交换膜燃料电池(PEMFC)金属双极板的耐蚀导电性能。方法通过等离子体增强化学气......
目的研究非晶碳膜的压阻性能和机理,并将其作为压敏电阻应用于MEMS压力传感器敏感电路中。方法使用直流溅射工艺制备非晶碳膜压敏......
非晶碳薄膜由sp^2和sp^3杂化的碳原子组成。sp^2和sp^3碳原子的比例是决定非晶碳膜的结构和性能的重要参数。如何定量或定性地分析......
在不同的直流负偏压下利用直流射频等离子体辅助化学气相沉积技术在单晶硅表面沉积得到了类金刚石薄膜,用拉曼光谱、红外光谱和原......
目的考察非晶碳膜(amorphous carbon film,a-C)在干摩擦和在离子液体(IL)润滑下的载流摩擦磨损行为特点。方法选取不锈钢、涂覆离......
从电弧蒸发源控制技术和大颗粒过滤技术出发,论述了电弧离子镀技术最近的发展成果,并总结了电弧离子镀技术在氮化物、氧化物、非晶......
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铁磁性金属纳米颗粒薄膜系统中存在的巨磁电阻效应、巨霍尔效应、高矫顽力效应等新特性,使其在磁性传感器件、高密度记录介质、读......
在不同的负直流衬底偏压下,用脉冲激光沉积法在单晶Si和K9玻璃衬底上沉积水晶碳膜.用扫描电镜观察膜的表面形貌;用椭偏法测量沉积......
采用磁控溅射的方法溅射SiC靶材所制备的碳化硅薄膜由于制备过程中碳易被溅射气体带走而很难形成结构较好的晶态结构。采用纯物理......
液相法以成本低、制备工艺简单等特点成为制备非晶碳膜的热点。然而适合工业化生产的制备工艺参数尚不明确。以Si单晶为基底,通过......
采用高功率脉冲磁控溅射(Hi PIMS)工艺在单晶硅和石英基体上沉积a-C膜,研究了基体偏压对其结构和光电性能的影响。结果表明,基体偏......
用直流磁控溅射技术在304不锈钢基体上制备导电非晶碳膜,重点研究了基体偏压对非晶碳膜微结构、导电性和耐蚀性的影响。结果表明:......
近几十年来,非晶碳(a-C)膜因其优良的机械性能、耐摩擦磨损性能以及良好的生物相容性获得了大量的研究,并广泛应用于机械、航天军......
学位
非晶碳和半导体材料具有独特的性能，其电阻可以由电场和/或磁场等多种场来控制。非晶碳展示了丰富的电学和磁学输运现象，并具有广泛......
本课题采用磁控溅射的方法在以GCr15为主的基材上制备了C／SiC双层耐磨减摩薄膜：用射频磁控溅射法分别在衬底加热与不加热时首先沉积......
质子交换膜燃料电池是一种无污染的电池,双极板是其核心部件之一,对其成本和输出功率有显著影响。非晶碳膜金属双极板具有优异的综......
为增强橡胶在动密封环境服役的耐磨性,采用等离子体增强化学气相沉积技术在丁腈橡胶表面制备非晶碳膜。利用高分辨透射电子显微镜(......
采用磁控溅射技术制备了无掺杂及掺杂Cr,WC的3种非晶碳膜,通过SEM和XRD对薄膜进行了微观形貌观察及物相分析,利用多功能材料表面性......
