衬底温度对磁控溅射氧化锌薄膜的影响及其物性研究

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【摘要】

：

本论文采用射频磁控溅射在单晶Si衬底上制备ZnO薄膜,研究了不同衬底温度对ZnO薄膜形貌、结晶和发光等物性的影响。研究结果如下:利用射频磁控溅射法沉积了一系列氧化锌薄膜,保持其他生长参数不变,调节改变衬底温度分别为室温、100℃、200℃、300℃、400℃和500℃。使用原子力显微镜表征了氧化锌薄膜的表面形貌,在中间温区200℃和300℃时沉积的氧化锌薄膜最光滑,成膜均匀致密,表面粗糙度较小。使

【作者】

：

于长明

【机构】

：

长春理工大学

【发表日期】

：

2016年03期

【关键词】

：

氧化锌薄膜磁控溅射衬底温度

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