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本文在全面总结智能材料的研究现状和未来发展趋势的基础上,利用射频磁控溅射法制备NiTi/ZnO复合薄膜,并利用XRD、SEM、EDS、DMA、台阶仪、纳米压痕仪、划痕仪等测试方法研究了复合薄膜的微观组织、相结构、化学成分、力学与阻尼性能。首先探讨了衬底温度、溅射功率、溅射气压等主要工艺参数对NiTi薄膜的微观组织、相结构、化学成分及力学性能的影响规律,确定出制备薄膜相对优化的工艺参数。在试验所研究的范围内,沉积NiTi薄膜的优化工艺参数为:衬底温度为500℃,溅射功率为250W,溅射气压为