钕铁硼磁性材料在新能源汽车制造,风能发电,新型电机等高科技行业应用非常广泛。但由于磁体耐蚀性能极差,对磁体进行足够有效的防腐处理是提高磁体使用价值的关键因素。综合对比各类防腐办法,决定研究采用PVD中的磁控溅射技术在钕铁硼磁体表面制备铝锰合金薄膜,对实际产业化也有重要的指导意义。磁控溅射镀膜工艺参数会对薄膜耐腐蚀性能产生重要影响,根据Ar气压、靶基距、负偏压、靶电流、靶材锰含量等关键工艺参数设计正交试验;根据实验结果调节镀膜工艺参数,提高薄膜耐腐蚀性能。对拼接靶制备的铝锰合金薄膜腐蚀机理及性能进行分析研究。通过更换不同的锰含量的铝锰合金靶材,制备了不同锰含量的铝锰合金薄膜。使用扫描电镜及配套的的能谱分析仪和X射线衍射仪分析薄膜表面形貌及成分构成,研究了靶材锰含量对薄膜成分构成、表面形貌及相结构的影响,使用电化学工作站分析不同锰含量的薄膜耐腐蚀性能,研究了薄膜结构对耐腐蚀性的影响;通过显微硬度计和多功能表面性能试验仪对薄膜的力学性能进行了研究分析;对熔炼靶制备的铝锰合金薄膜的性能进行分析研究。通过对比拼接靶制备薄膜的性能,熔炼靶制备的薄膜性能更加出色。综上所述,通过磁控溅射在钕铁硼磁体表面制备非晶铝锰合金薄膜,其耐蚀性能优秀,是一种很有发展前景的磁体保护技术。