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用苯（C_6H_6）和三氟甲烷（CHF_3）混合气体作源气体，采用永磁微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积（MWECR—CVD）技术，成功地制备了低介电常数的氟化非晶碳膜（a-C:F,H）。典型条件下膜的介电常数为2.56。用TEM、XRD、XPS、UV—VIS、OES等测试手段对a-C:F,H薄膜的结构和性能进行了表征。 TEM和XRD证明沉积的a-C:F,H膜是非晶的。