本文围绕小闪耀角凸面闪耀光栅的制作方法，对离子束束散角和涂层修整槽形展开了理论和实验研究，主要包含以下几方面的内容：首先介绍了凸面闪耀光栅的意义和国内外凸面光栅的研究进展，综合叙述了离子束刻蚀技术和Kaufman离子源系统的工作原理。深入研究了光刻胶、K9玻璃和石英三种光学材料的刻蚀特性，以氩气为工作气体，得到了三种材料刻蚀速率与入射角度的拟合方程，为离子束束散角的研究提供了基础。详细介绍了离子束束散角的计算以及束散角对刻蚀闪耀角的影响。提出了闪耀光栅闪耀角达到4°以后很难进一步减小可能是受离子束束散角影响的设想，并进行了理论分析和实验验证。通过遮挡刻蚀改良离子源准直性，在平面基底和凸面基底上制得了闪耀角2.8°和3.4°的闪耀光栅，在原有工艺的基础上，将闪耀角降低。通过对已有闪耀角4°左右的闪耀光栅进行旋转涂布和提拉涂布光刻胶，进一步降低闪耀角。验证了不同旋涂、提拉速度和光刻胶溶剂浓度对最终实验结果的影响。得到了闪耀角减小量与涂层胶厚的拟合方程。分别通过旋转和提拉涂布制得闪耀角1.85°，反闪耀角11.1°和闪耀角1.81°，反闪耀角12.7°的凸面闪耀光栅。