氢氟酸酸蚀是传统的用于去除玻璃反射镜体机加工艺轻量化后残余应力的一种有效方法,由于传统对于反射镜体及其轻量化孔的形位公差要求都不高,因此对酸蚀工艺一直未见详细研究。对于可用于深空科学探测和反导预警等国防安全事业的全低温光学系统,其反射镜结构一体件和结构件形位公差都有较高要求,且大部分的形位公差只能靠机加工艺保证,这就要求酸蚀过程中基本不能改变微晶玻璃结构件的形位公差,因此对于酸蚀过程中各工艺参数的影响以及保形酸蚀工艺条件进行研究具有很重要的价值。本文以酸蚀机理为基础,结合实验,证明了氢氟酸酸蚀对于微晶玻璃表面存在的裂纹,划痕和微裂纹的影响,酸蚀有利于微晶玻璃释放残余应力。同时,通过实验分析了酸蚀工艺参数对于酸蚀的影响并提出一些优化方法。最后,解决实际酸蚀过程中氢氟酸酸蚀大体积实验件上下去除量不一致的问题并且结合之前实验得出的工艺条件实现了可用于全低温光学系统的微晶玻璃结构件酸蚀前后的形位公差不变即保形。