Ti3O5具有相变可逆性、光催化性、氧敏性等一系列特性，且阻-温稳定性好，无毒无害，属环境友好型材料。随着纳米科技的不断发展，Ti3O5纳米材料的研究掀起了热潮。良好的光存储、光催化性能使其备受关注。本学位论文采用了常压化学气相沉积法，对Ti3O5纳米线的自诱导制备工艺及其光催化性能进行了研究。实验分别考察温度、时间、O2流量等条件对Ti3O5纳米线晶型、晶相生长及光催化性能方面的影响。并研究了降温过程中纳米线的生长状况。研究表明：（1）采用自诱导氧化法在Ti5Si3粉末上成功地制备了单斜晶系的Ti3O5纳米线。当温度800oC，反应时间90min，O2流量为20sccm时，有大量表面光滑直立的纳米线生成。纳米线长约500nm，直径约20-40nm。自诱导的生长机制是：在Ti5Si3表面Ti-O成核后形成的原空位成为诱因，促使Ti3O5结晶形成，随着O2的不断补充，Ti3O5纳米线由顶端向下生长。反应过程经热力学分析，吉布斯自由能小，反应可行。（2）Ti3O5纳米线的生长受反应温度、反应时间和O2流量的影响。随着反应温度的增加，Ti3O5晶相生长速率逐步升高，而成核速率会先升高后降低，最佳的生长温度为800oC；反应时间过短则氧化反应的进行不足，过长会因Ti元素的消耗而无法促进纳米线的生长，最佳的生长时间约为90min；O2流量是Ti3O5纳米线制备过程的重要影响因素之一。流量较小不利于反应；流量过大，则纳米线的各向异性缩小，纳米线会聚集成团，难以辨认，最佳的O2流量约为20sccm。（3）在降温过程中设置再恒温段，因为温度较低、反应物不足等原因，这个阶段纳米线的生长速度较慢。新长出的线直径较小，约为15-20nm，使得整个纳米线呈现顶端粗-底端细的形貌特征。（4）Ti3O5纳米线半径小、比表面积很大，不仅降低了电子-空穴对的复合几率，还易于被被降解物质吸附，提高了Ti3O5的光催化活性。在最佳工艺条件下制备的纳米线的光催化性能最佳，当降解时间为180min时，Ti3O5纳米线对亚甲基蓝的降解率达到62%。